• 產品詳情
    • 產品名稱:桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀

    • 產品型號:TN-MSP210S-2DC
    • 產品廠商:泰諾
    • 產品文檔:
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    簡單介紹:
    桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公自主研發的一款高性價比真空PVD鍍膜設備。桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
    詳情介紹:

    TN-MSP210S-2DC本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。
    本套配置采用高真空不銹鋼腔體,前開門式設計,門上配有石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。頂蓋上裝有一套擋板,可通過轉動擋板切換兩支靶,實現多層鍍膜
    。


    名稱
    桌面雙靶直流磁控濺射鍍膜儀
    TN-MSP210S-2DC
    • 自主研發、高性價比
    • 結構緊湊可放置于桌面
    • 1英寸或2英寸,標準尺寸磁控靶
    • 雙直流電源,共同濺射或者多次濺射
    參數
    1. 1、旋轉加熱樣品臺:尺寸φ100mm;加熱溫度:max temp:500℃;控溫精度:±1℃;轉速:1-20rpm可調
    2. 2、磁控濺射頭:數量2” ×2(1”,2”可選) 水冷
    3. 3、真空腔體:尺寸:φ210mm ×260mm、材料 :不銹鋼;前開門式;φ40mm的觀察窗
    4. 4、真空系統:分子泵組 前級泵 旋片泵 抽速 1.1L/s
      次級泵 渦輪分子泵(國產) 抽速 600L/s
      抽氣口 KF40 出氣口 KF16
    5. 5、濺射電源:直流電源 ×2;輸出功率 ≤300W ; 輸出電壓 ≤600V ;響應時間 <5ms
    6. 6、水冷系統 水箱容積 9L 流量 10L/min
    7. 7、膜厚儀 測量精度 0.1埃米 冷卻方式 水冷
    規格
    尺寸:500mm × 350mm × 400mm;重量50kg ;電壓:AC220V,50Hz;功率:4KW

    注意:設備需要配合高真空分子泵組一起使用,用戶可以選擇進口品牌小型分子泵以進一步節省安裝面積。

     同時該型號可選配膜厚儀組件,可實時監測膜厚數據,為實驗工藝提供可靠參數

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