• 產品詳情
    • 產品名稱:單靶射頻磁控濺射鍍膜儀

    • 產品型號:TN-MSP300S-RF
    • 產品廠商:泰諾
    • 產品文檔:
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    簡單介紹:
    單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于非金屬膜、光學膜的濺射,根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。
    詳情介紹:
    TN-MSP300S-RF 單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇;所配射頻電源,500W-1000W ,可用于非金屬膜、光學膜的濺射,根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。

    鍍膜儀具有一路高精度質量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路,以滿足復雜的氣體環境構建需求;儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達10E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制,在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能,可以進一步提高您的實驗效率。

    用途單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。


    產品名稱
    單靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)
    產品型號
    TN-MSP300S-RF
    特點
    • 自主研發、高性價比
    • 標準2英寸磁控濺射頭
    • 射頻電源,非金屬膜、光學膜
    • 高精度質量流量計
    • 渦輪分子泵組,極限真空可達10E-5Pa
    • 一體機電腦操作
    參數
    1. 1、樣品臺:尺寸φ150mm;  加熱溫度 maxtemp:500℃;控溫精度:±1℃;轉速:1-20rpm可調
    2. 2、磁控濺射頭:2” ×1 (1”,2”,3”可選)10L/min流速的循環水冷 
    3. 3、真空腔體:尺寸:φ300mm × 340mm 材料:不銹鋼、上頂開式, 觀察窗口:φ100mm
    4. 4、質量流量計:1路;量程200SCCM;Ar(可根據客戶需要定制多路氣路)
    5. 5、真空系統:分子泵系統,抽速600L/S
    6. 6、真空測量:復合真空計
    7. 7、濺射電源:射頻電源 ×1;max輸出功率 500W-1000W 可選
    8. 8、膜厚儀:石英振動薄膜測厚儀一臺,分辨率0.10 ?
    9. 9、操作方式:一體機電腦操作
    規格
    尺寸:1090mm × 900mm × 1250mm;重量:350kg ;電壓:AC220V,50Hz;功率:6KW


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