• 產品詳情
    • 產品名稱:離子源電子束蒸發鍍膜儀

    • 產品型號:
    • 產品廠商:泰諾
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    簡單介紹:
    該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
    詳情介紹:

    該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜.

    電子束蒸發方式鍍膜儀設備技術參數

    使用條件

    環境溫度

    5℃~40

    電源

    380V

    功率

    20KW

    水壓

    2.5bar

    真空室尺寸

    蒸發室尺寸

    φ500×H500()

    過渡倉庫

    φ280×H300()

    電子槍

    新型電子槍1套,6穴坩堝

    離子源

    考夫曼離子源K08一套

    樣品轉盤

    樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉,也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500

    系統真空度

    極限真空

    12~24小時烘烤,連續抽氣5x10-5Pa

     

    抽氣速率

    從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10-4Pa

     

    系統漏率

    整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關機12小時后,測量真空室真空度≤10Pa

    抽真空系統

    TY1200分子泵+機械泵(VRD-30)系統,并設置旁路抽氣

    鍍膜監測

    采用TM160膜厚儀進行監測

    鍍膜厚度的不均勻度

    ≤3%

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